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3 其它應注意的問題
3.1 鍍液溫升問題紋波系數大的直流電源及脈沖電源往往會加快溫升。從理論上分析，這是由于任何非純直流與正弦波，都能分解為純直流與一次、二次、三次、多次諧波。紋波系數越大，其諧波分量也越大。一般情況下，交流諧波對直流電沉積無貢獻，但卻能產生大量歐姆熱，加快了鍍液溫升。可見，采用定脈寬高頻穩壓/穩流脈沖電源和低紋波系數直流電源，有利于降低鍍液溫升。
特別是氯化物鍍鋅和鋅酸鹽鍍鋅夏天頭痛的問題之一是鍍液溫升(特別是滾鍍)過快，加大添加劑消耗量，惡化鍍液、鍍層性能。采用平滑直流有利于將低鍍槽溫度。3.2 整流器負荷率對文波系數的影響工作電流越接近整流器的額定電流，波形越平滑。特別是可控硅整流電源更為明顯。選擇整流器時應根據工藝要求選取額定輸出電源電壓接近大需求值，避免使用中產生“大馬拉小車”現象，保證整流電源輸出紋波系數始終保持在較低值。
整流電源由于因整流管有損壞而造成缺相運行。對于三相電鍍電源二言，雖然某一相電出現故障，但此時的整流器輸出電流波形卻只相當于單項，三減一不等于二，等于一。因此，為保持其良好性能，應經常進行維護、檢修。好能備有一臺示波器及時查看輸出直流波形。4 結束語必須充分重視直流電源波形對電鍍質量的影響。采用低紋波電源或功能性脈沖電源能改善電鍍質量。電鍍生產中應注意電鍍整流器的正確選用。
第二段b（曲線bc段）：多孔層形成。隨著氧化膜的生成，電解液對膜的溶解作用也就開始了。由于生成的氧化膜并不均勻，在膜薄的地方將首先
被溶解出空穴來，電解液就可以通過這些空穴到達鋁的新鮮表面，電化學反應得以繼續進行，電阻減小，電壓隨之下降（下降幅度為高值的10～
15%），膜上出現多孔層。
第三段c（曲線cd段）：多孔層增厚。陽極氧化約20s后，電壓進入比較平穩而緩慢的上升階段。表明無孔層在不斷地被溶解形成多孔層的同時，新
的無孔層又在生長，也就是說氧化膜中無孔層的生成速度與溶解速度基本上達到了平衡，故無孔層的厚度不再增加，電壓變化也很小。但是，此時
在孔的底部氧化膜的生成與溶解并沒有停止，他們仍在不斷進行著，結果使孔的底部逐漸向金屬基體內部移動。隨著氧化時間的延續，孔穴加深形
成孔隙，具有孔隙的膜層逐漸加厚。當膜生成速度和溶解速度達到動態平衡時，即使再延長氧化時間，氧化膜的厚度也不會再增加，此時應停止陽
極氧化過程。陽極氧化特性曲線與氧化膜生長過程如下圖所示。在稀硫酸電解液中通以直流和交流電對鋁及其合金進行陽極氧化處理，可獲得5～20
微米厚，吸附性較好的無色透明氧化膜。
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