現(xiàn)貨供應(yīng)電解拋光加工_誠信企業(yè),不銹鋼電解拋光廠(忻州分公司)為您提供現(xiàn)貨供應(yīng)電解拋光加工_誠信企業(yè),聯(lián)系人:姚先生,電話:0527-88266222、17768165506,QQ:374457303,請聯(lián)系不銹鋼電解拋光廠(忻州分公司),發(fā)貨地:寶安區(qū)沙井街道共和社區(qū)福和路先欲興大廈604。" />
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產(chǎn)品參數(shù) 產(chǎn)品價格 電議 發(fā)貨期限 電議 供貨總量 電議 運(yùn)費(fèi)說明 電議 材質(zhì) 不銹鋼、不銹鐵 生產(chǎn)場地 深圳市寶安區(qū) 規(guī)格 奧氏體。馬氏體 類型 來料加工 顏色 鏡面 品牌 燈鼎 型號 DD-606 可定制 是 生產(chǎn)日期 2019-2022 價格 0.01元 生產(chǎn)時長 3小時 是否生產(chǎn)型 是 現(xiàn)貨供應(yīng)電解拋光加工_誠信企業(yè),不銹鋼電解拋光廠(忻州分公司)為您提供現(xiàn)貨供應(yīng)電解拋光加工_誠信企業(yè)的資訊,聯(lián)系人:姚先生,電話:0527-88266222、17768165506,QQ:374457303,發(fā)貨地:寶安區(qū)沙井街道共和社區(qū)福和路先欲興大廈604。 山西省,忻州市 忻(xīn)州市,山西省轄地級市,古稱“秀容”,簡稱“忻”,別稱“欣”。位于山西省中北部,北倚長城與大同、朔州為鄰,西隔黃河與陜西、內(nèi)蒙相望,東臨太行與河北接壤,南屏石嶺關(guān)與太原、陽泉、呂梁毗連,介于東經(jīng)110°53'3″—113°58′,北緯38°6′5″—39°40′之間,總面積25157.641平方千米,是山西省版圖的市。截至2022年10月,忻州市下轄1個市轄區(qū)、1個縣級市、12個縣。截至2022年末,忻州市常住人口265.56萬人。
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以下是:現(xiàn)貨供應(yīng)電解拋光加工_誠信企業(yè)的圖文介紹山西忻州不銹鋼電解拋光廠位于[地址。經(jīng)營范圍包括 不銹鋼電解拋光。我公司以科學(xué)的管理、準(zhǔn)確的檢測、周到的服務(wù)滿足廣大客戶的需求,在本行業(yè)中一直擁有良好的聲譽(yù),并贏得了客戶的廣泛好評。現(xiàn)代企業(yè)的管理方法,立足于產(chǎn)品的質(zhì)量管理。以其優(yōu)異的品質(zhì)、新穎的設(shè)計(jì)、合理的價格、完善的服務(wù)是公司不斷孜孜追求的目標(biāo)。品牌、銷售和網(wǎng)絡(luò)服務(wù)支撐了公司市場地位的競爭要素,精心編織銷售和網(wǎng)絡(luò)服務(wù),建立和完善市場快速反應(yīng)機(jī)制,適應(yīng)市場變化的隨機(jī)性,滿足市場產(chǎn)品需求的多樣性。
電拋光的持續(xù)時間對拋光質(zhì)量影響很大。開始的一段時間內(nèi),整平速度較大,隨后則逐漸減緩,甚至?xí)p害表面已出現(xiàn)的光潔度。隨著電流密度與溫度的提高,電拋光的時間應(yīng)當(dāng)縮短。為了獲得光潔度較高的表面,常可采用反復(fù)幾次拋光的辦法,而每次拋光的時間則不要太長。
鋁及其合金的電拋光,早先多是采用磷酸-硫酸溶液,純度高,拋光的效果也就越好。作為鋼的電拋光的電解液雖有很多種,但真正用于生產(chǎn)的并不多。為了延長電解液的使用期限和節(jié)約磷酸,在電拋光碳鋼時,可以先在磷酸-硫酸-鉻酸酐溶液中進(jìn)行初拋,然后再用磷酸-鉻酸酐電解液精拋。如果使用大電流間斷地沖擊,后可使表面光潔度達(dá)到。鎳、銅等的電拋光也可在類似的溶液中進(jìn)行。
陰極面積/陽極面積 1.5:1 影響氧化膜質(zhì)量的因素主要有:
①硫酸濃度:通常采用15%~20%。濃度升高,膜的溶解速度加大,膜的生長速度降低,膜的孔隙率高,吸附力強(qiáng),富有彈性,染色性好(易于染深色),但硬度,耐磨性略差;而降低硫酸濃度,則氧化膜生長速度加快,膜的孔隙少,硬度高,耐磨性好。
所以,用于防護(hù),裝飾及純裝飾加工時,多使用允許濃度的上限,即20%濃度的硫酸做電解液。
②電解液溫度:電解液溫度對氧化膜質(zhì)量影響很大。溫度升高,膜的溶解速度加大,膜厚降低。當(dāng)溫度為22~30℃時,所得到的膜是柔軟的,吸附能力好,但耐磨性相當(dāng)差;當(dāng)溫度大于30℃時,膜就變得疏松且不均勻,有時甚至不連續(xù),且硬度低,因而失去使用價值;當(dāng)溫度在10~20℃之間時,所生成的氧化膜多孔,吸附能力強(qiáng),并富有彈性,適宜染色,但膜的硬度低,耐磨性差;當(dāng)溫度低于10℃,氧化膜的厚度增大,硬度高,耐磨性好,但孔隙率較低。因此,生產(chǎn)時必須嚴(yán)格控制電解液的溫度。要制取厚而硬的氧化膜時,必須降低操作溫度,在氧化過程中采用壓縮空氣攪拌和比較低的溫度,通常在零度左右進(jìn)行硬質(zhì)氧化。
③電流密度:在一定限度內(nèi),電流密度升高,膜生長速度升高,氧化時間縮短,生成膜的孔隙多,易于著色,且硬度和耐磨性升高;電流密度過高,則會因焦耳熱的影響,使零件表面過熱和局部溶液溫度升高,膜的溶解速度升高,且有燒毀零件的可能;電流密度過低,則膜生長速度緩慢,但生成的膜較致密,硬度和耐磨性降低。
④氧化時間:氧化時間的選擇,取決于電解液濃度,溫度,陽極電流密度和所需要的膜厚。相同條件下,當(dāng)電流密度恒定時,膜的生長速度與氧化時間成正比;但當(dāng)膜生長到一定厚度時,由于膜電阻升高,影響導(dǎo)電能力,而且由于溫升,膜的溶解速度增大,所以膜的生長速度會逐漸降低,到后不再增加。
⑤攪拌和移動:可促使電解液對流,強(qiáng)化冷卻效果,保證溶液溫度的均勻性,不會造成因金屬局部升溫而導(dǎo)致氧化膜的質(zhì)量下降。
⑥電解液中的雜質(zhì):在鋁陽極氧化所用電解液中可能存在的雜質(zhì)有Clˉ,Fˉ,NO3ˉ,Cu2+,Al3+,Fe2+等。其中 Clˉ,Fˉ,NO3ˉ使膜的孔隙率增加,表面粗糙和疏松。若其含量超過極限值,甚至?xí)怪萍l(fā)生腐蝕穿孔(Clˉ應(yīng)小于0.05g/L,Fˉ應(yīng)小于0.01g/L);當(dāng)電解液中Al3+含量超過一定值時,往往使工件表面出現(xiàn)白點(diǎn)或斑狀白塊,并使膜的吸附性能下降,染色困難(Al3+應(yīng)小于20g/L);當(dāng)Cu2+含量達(dá)0.02g/L時,氧化膜上會出現(xiàn)暗色條紋或黑色斑點(diǎn);Si2+ 常以懸浮狀態(tài)存在于電解液中,使電解液微量混濁,以褐色粉狀物吸附于膜上。
⑦鋁合金成分:一般來說,鋁金屬中的其它元素使膜的質(zhì)量下降,且得到的氧化膜沒有純鋁上得到的厚,硬度也低,不同成分的鋁合金,在進(jìn)行陽極氧化處理時要注意不能同槽進(jìn)行。
隨著鋁制品加工的發(fā)展,鋁制品表面處理的代表-陽極氧化越來越受到行業(yè)的關(guān)注。如蘋果推出的Iphone 6S:通過表面陽極氧化處理,既能得到很高的硬度,又能得到天空灰、玫瑰金等效果。
1.3.4 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時,由同一臺電源疊加輸出一純直流成分,更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。
近幾年來,國產(chǎn)多功能脈沖電源技術(shù)已趨于成熟,其中脈沖波形垂直程度,波形平穩(wěn)程度、穩(wěn)定性、抗干擾性等指標(biāo)達(dá)到甚至超過了國外水平。
直流電源波形對電鍍質(zhì)量有突出的影響,例如:高頻率定脈寬高頻穩(wěn)壓/穩(wěn)流脈沖電源電鍍時會產(chǎn)生特殊效應(yīng),這也是普通直流電源電鍍無法達(dá)到的效果,有些現(xiàn)象還不能用常規(guī)電化學(xué)理論來加以解釋。而直流波形對電鍍沉積的影響目前還難以從理論上進(jìn)行預(yù)測,只能通過大量的試驗(yàn)來作相對比較,篩選出適宜的波形。2 電鍍電源對電鍍工藝的影響
2.1 鍍鉻
各類電鍍工藝中,鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源,否則光亮范圍窄,鍍層易發(fā)花、發(fā)灰,這一點(diǎn)已為不少人認(rèn)同,但實(shí)踐中仍有因?qū)ζ湔J(rèn)識不足,往往由于紋波系數(shù)過大影響套鉻質(zhì)量而束手無策的事時有發(fā)生。因此,電鍍電源的選擇就更顯重要。
對于經(jīng)常使用反向電解的電鍍硬鉻生產(chǎn),需要電源極性換向裝置。簡單的方法是使用手動換向開關(guān)。由于電流很大,開關(guān)通、斷時會形成較大的電火花,開關(guān)很容易損壞。將觸點(diǎn)浸入變壓器油中可以延長使用壽命。可控硅整流器實(shí)現(xiàn)換向比較容易,由于是無觸點(diǎn)換向,不會產(chǎn)生火花腐蝕。如電流變化不大時,可考慮使用可控硅極換向裝置。
電源波形對鍍鉻的影響較大。而且往往容易被操作者忽視。如某廠小件鍍裝飾鉻,覆蓋能力非常差,反復(fù)調(diào)整鍍液中硫酸與鉻酐的比值,仍無效。經(jīng)現(xiàn)場查驗(yàn),采用1000A老式可控硅整流器,且平均電流僅200A左右,負(fù)荷率很低,顯然輸出紋波系數(shù)太大。換接一臺雙反星形輸出的硅整流器,鍍鉻即轉(zhuǎn)為正常。另有某廠鍍鉻上午生產(chǎn)正常,下午即出現(xiàn)裝飾鉻局部發(fā)灰,無法生產(chǎn),懷疑鍍液故障,反復(fù)加硫酸、碳酸鋇調(diào)整一兩天,均無法解決。分析原因,鍍液成分不可能突變,懷疑硅整流管有損壞造成波形殘缺而增大紋波。用鉗形電流表測定各整流管電流,發(fā)現(xiàn)斷路2支,更換新管后,故障。
鍍微裂紋硬鉻,輸出紋波過大時,裂紋不細(xì)密且分布不均勻。
采用脈沖電鍍鉻,也可得到優(yōu)良的鍍層。研究表明,當(dāng)采用工藝條件為:頻率1000Hz,占空比通:斷=1/5,平均電流密度40A/dm2,30度溫度,獲得的鍍鉻層耐磨性提高三倍;耐腐蝕性提高5倍。
2.2 光亮酸性鍍銅
一般情況下,光亮鍍銅都有一個規(guī)律:從赫爾槽試片上看,陰極電流密度越大的地方,鍍層光亮整平性越好;電流密度越低,光亮整平性越差。試圖擴(kuò)展低電流密度區(qū)光亮范圍,始終是電鍍工作者不斷追求的目標(biāo)。需要從光亮劑、工藝配方與工藝條件、設(shè)備等多方面入手。光亮酸性鍍銅是迄今光亮整平性好的鍍種之一。但在實(shí)踐中,采用同樣的配方、工藝條件,使用相同的光亮劑,得到的光亮整平性與光亮范圍,卻可能出現(xiàn)較大差異。究其原因,與所用直流電源輸出紋波系數(shù)大小有很大關(guān)系。據(jù)有關(guān)資料,二十多年前,國內(nèi)在開發(fā)MN系列光亮酸性鍍銅添加劑時就已證實(shí)。規(guī)律是:輸出紋波系數(shù)越小,鍍層光亮整平性越好,光亮電流密度范圍越寬。而且,紋波越小,光亮劑的用量也會越小。遺憾的是時至今日并未引起電鍍工藝技術(shù)人員的重視。
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