以下是:陰極電鍍整流機過程解說20的產品參數
產品參數 產品價格 電議 發貨期限 電議 供貨總量 電議 運費說明 電議 公司名稱 燈鼎電源生產廠家 出廠日期 2020至2026年 試用行業 電鍍、電解、氧化、電源、電鑄 保修時長 12至36個月 陰極電鍍整流機過程解說20,不銹鋼電解拋光廠(深圳分公司)為您提供陰極電鍍整流機過程解說20的資訊,聯系人:姚先生,電話:0527-88266222、17768165506,QQ:374457303,發貨地:寶安區沙井街道共和社區福和路先欲興大廈604。 廣東省,深圳市 深圳市，簡稱“深”，別稱鵬城，廣東省轄地級市、副省級市、計劃單列市，超大城市，國務院批復確定的經濟特區、全國性經濟中心城市和創新型城市，粵港澳大灣區核心引擎城市之一。截至2022年末，全市下轄9個區，總面積1997.47平方千米，常住人口1766.18萬人。
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高頻電鍍電源電鍍原理：
用電解的方法將金屬沉積于導體(如金屬)或非導體(如塑料、陶瓷、玻璃鋼等)表面，從而提高其耐磨性,增加其導電性,并使其具有防腐蝕和裝飾功能。對于非導體制品的表面，需經過適當地處理（用石墨、導電漆、化學鍍處理，或經氣相涂層處理），使其形成導電層后,才能進行電鍍。電鍍時,將被鍍的制品接在陰極上，要鍍的金屬接在陽極上。電解液是用含有與陽極金屬相同離子的溶液。通電后，
陽極逐漸溶解成金屬正離子，溶液中有相等數目的金屬離子在陰極上獲得電子隨即在被鍍制品的表面上析出，形成金屬鍍層。
例如在銅板上鍍鎳，以含硫酸鎳的水溶液作電鍍液。通電后，陽極上的鎳逐漸溶解成正離子，而在陰極的銅板表面上不斷有鎳析出。電鍍電源是將工頻交流電變換為不同電壓、頻率和波形的直流電設備。在晶閘管整流器中主要應用“整流”技術，在高頻開關電源中既應用“整流”技術又應用“逆變”技術。電鍍電源主要由主電路和控制電路組成。
主電路主要包括主變壓器、功率整流器件和一些檢測、保護裝置等。電鍍電源中的主變壓器是將交流電源電壓降低為電鍍工藝所需要的電壓值。晶閘管整流器中使用的是工頻(50Hz)變壓器，高頻開關電源中使用的是高頻(10～50kHz)變壓器。檢測裝置包括電壓表、電流互感器等。保護裝置主要是用于功率整流器件的過流保護。
控制電路主要包括晶閘管或IGBT等的觸發控制電路，電源的軟啟動電路，過流、過壓保護電路，電源缺相保護電路等。
高頻開關電源與可控硅整流器的區別
8000A/18V為例比較參數
電鍍屬于電解加工過程，電源的因素必將對電鍍工藝過程產生直接影響，電鍍電源在電鍍工藝中具有重要地位。電鍍電源和低紋波系數整流電源在電鍍行業中的應用，讓電鍍界同仁在選擇整流電源、解決電鍍故障、提高電鍍質量有所幫助。
1、整流器的基本類型
硅整流器：硅整流器使用歷史長，技術成熟，目前是整流器主流產品。各種整流電路獲得的均是脈動直流電，不是純直流。為了比較脈動成份的多少，一般用紋波系數來表示，其數值越小，交流成份越少，越接近純直流。各種整流電路的波動系數不同。其由大到小的次序為：三相半波整流、三相全波橋式整流或帶平衡電抗器的六相雙反星形整流。
可控硅利用改變可控硅管導通角來調整輸出平均直流大小的普通可控硅整流器，可控硅管輸出的是間斷脈沖波，其紋波系數的受導通角控制，輸出紋波系數大于普通硅整流電路。2、開關電源
開關電源兼有硅整流器的波形平滑性優點及可控硅整流器的調壓方便的優點，電流效率高體積小，數千安培至上萬安培的大功率開關電源已進入生產實用階段。開關電源其頻率已達音頻，通過濾波實現低紋波輸出更為簡便易行。而且穩流、穩壓等功能更易實現。因此，開關電源是今后發展的方向。3、脈沖電源設備
脈沖電源主要是由嵌入式單片計算機等進行控制，因此，除實現脈沖輸出之外，一般具備多種控制功能。（1)自動穩流穩壓。傳統硅整流器電流或電壓無法自動穩定，隨電網電壓的波動而波動。而脈沖電源則擁有高精度的自動調節功能，脈沖電源輸出電壓可以幾乎不變。脈沖電源的自動調節功能一般具有二種模式：一，恒電流限壓模式。二，恒電壓限流模式。
（2) 多段式運行模式。鋁陽極氧化或硬鉻電鍍時，往往需要進行反向電解、大電流沖擊、階梯送電等操作。
具有多段式運行模式的脈沖電源則只需提前設定，生產時可自動按順序進行自動調節。這一功能對硬鉻電鍍是非常有用的，每一段時間可在0～255秒內調節設定。（3)雙向脈沖功能。正負脈沖頻率、占空比、正反向輸出時間均可獨立調節，使用靈活、方便。配合硬鉻電鍍工藝，可獲得不同物理性能的鍍層。（4) 直流疊加功能。輸出正反向脈沖電流的同時，由同一臺電源疊加輸出一純直流成分，更拓寬了脈沖電源的使用范圍及用途。4、電鍍電源對電鍍工藝的影響
直流電源波形對電鍍質量有突出的影響 各類電鍍工藝中，鍍鉻是受電源波形影響大的鍍種之一。鍍鉻必須采用低紋波直流電源，否則光亮范圍窄，鍍層易發花、發灰。在使用鍍硬鉻添加劑時，產生微裂紋鉻層，輸出紋波過大時，裂紋不細密且分布不均勻，達不到要求的裂紋數。
光亮鍍銅都有一個規律：從赫爾槽試片上看，陰極電流密度越大的地方，鍍層光亮整平性越好；電流密度越低，光亮整平性越差。試圖擴展低電流密度區光亮范圍，同時降低高流密度區光亮度，光亮均勻好。在實踐中，采用同樣的配方、工藝條件，使用相同的光亮劑，得到的光亮整平性與光亮范圍，卻可能出現較大差異，這與所用直流電源輸出紋波系數大小有很大關系。
光亮鍍鎳對整流輸出紋波系數要求沒有鍍鉻和光亮酸性鍍銅那樣高，但也確實需要采用普通低紋波輸出直流電源，才能確保光亮鍍鎳層質量，且能保證后續套鉻的質量。
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根據受鍍面積也可以計算出大電流。以鍍鉻為例，如果是600L的鍍液，在60℃時，允許的大電流密度為100A/dm，設鍍槽滿載時可以鍍10dm，則所需要的電源大輸出電流為100A/dm×10dm2=1000A，也就是要配置1000A、18V的整流電源。
在確定了電源的功率大小以后。還要根據電鍍工藝的需要和電鍍現場的條件來選擇電鍍電源的波形、冷卻方式、體積大小和防腐蝕能力等，包括成本因素綜合僅以平衡。
根據受鍍面積也可以計算出大電流。以鍍鉻為例，如果是600L的鍍液，在60℃時，允許的大電流密度為100A/dm，設鍍槽滿載時可以鍍10dm，則所需要的電源大輸出電流為100A/dm×10dm2=1000A，也就是要配置1000A、18V的整流電源。
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