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工業廢氣處理設備。解吸出的VOCs氣體經過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應的工藝調整。 在用多孔性固體物質處理流體混合物時,流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現象稱為吸附。吸附處理廢氣時,吸附的對象是氣態污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱為吸附質,多孔固體物質稱為吸附劑。固體表面吸附了吸附質后,一部被吸附的吸附質可從吸附劑表面脫離,此現附。 工業廢氣處理設備 特點:① 不需要高成本的化學藥劑,運行穩定,耐腐蝕,耐負荷沖擊能力大。② 針對特定有害氣體成份馴化適當的微生物,提高單位容積的負荷率。③ 填料采用有機無機混合填料,比表面積大,孔隙率高,并可為微生物提供營養,可支撐大量不同種群微生物群。④ 填料活性介質的損失小、可減少能耗,降低運行費用。采用強化自然生物降解污染物,無二次污染物產生。VOC去除率高,對H2S的去除率可達99%。 PLC控制系統自動運行,無需人員管理。



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光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產物,而傳統的高溫焚燒技術則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過量的空氣使這些雜質燃燒,大多數生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時,燃燒生成產物中HCl或SO2,需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發產生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優點,具體研究中可根據需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。



印刷行業催化燃燒裝置吸附脫附催化燃燒主要用于涂裝、印刷、機電、家電、制鞋、塑料及各種化工車間里揮發或泄漏出的有害有機廢氣的凈化及臭味的,適用于較低濃度的、不宜采用直接燃燒或催化燃燒和吸附回收處理的有機廢氣,尤其對大風量的處理場合,均可獲得滿意的經濟效益和社會效益。 印刷行業催化燃燒裝置在燃燒室中,有機廢氣再由燃燒器加熱燃燒,加熱升溫至設定的氧化溫度,此時溫度同樣為設定的800℃,使有機物被分解成二氧化碳和水。由蓄熱室排出。在此同時,由廢氣引風機抽出少許前一循環殘留在蓄熱室中的微量有機氣體,再送至燃燒室中進行焚燒,此部分氣體同處理后氣體一起離開蓄熱室,經熱回收設備排入大氣。

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