光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物完全氧化成無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫,燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效，其原理是用過量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒，大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣，可以排放到大氣中。但當處理含氯和含硫的有機化合物時，燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2，需要對燃燒后氣體進一步處理設備。 從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑,常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

工廠廢氣處理設備可率解決苯、二甲苯、非甲烷總烴等有機廢氣，也可率解決*、氨等惡臭味汽體，是運用普遍、清潔實際效果合乎環(huán)境保護規(guī)定的廢氣設備,作為閱歷豐富的低溫等離子廢氣處理設備廠家，大家的機器設備早已取得成功的運用于塑膠、硫化橡膠、噴涂、食品工業(yè)等許多 制造行業(yè)。 工廠廢氣處理設備 各種工業(yè)廢氣處理設備都有其合適的處理濃度，但濃度過高，處理效果不完全，不能達到排放標準。過低，將不可避免地造成不必要的運營成本。因此，買方根據(jù)廢氣濃度選擇工業(yè)廢氣處理設備后，廢氣排放濃度應盡可能控制在設備的處理濃度范圍內(nèi)。廢氣種類:廢氣種類很多，每種廢氣的濃度都不一樣。在高濃度的情況下，如果工業(yè)廢氣處理設備不符合濃度范圍的要求，工業(yè)廢氣處理設備的運行將處于異常狀態(tài)。有些有機廢氣是酸性的，如氯、硫等元素，會對設備造成一定的腐蝕，從而影響其正常運行。