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氧化膜中的雜質主要來源于鋁件本身,次要來源是氧化槽液.因此,適當降低鋁件中合金元素的含量,盡量降低鋁件的雜質含量,甚至選用高純鋁都能提高氧化膜純度.降低槽液中的雜離子,保持槽液新鮮也能提高氧化膜純度.氧化膜厚度以控制在10-12um為宜,如果產品標準不要求氧化膜厚度>=10um,則將氧化膜厚度控制在6-8um.氧化膜的孔隙率主要取決于溶膜速度,溶膜越快則孔隙率越大.溶膜速度與硫酸濃度/槽液溫度/電流密度成正變關系,因此,適當降低硫酸濃度/槽液穩度/電流密度過都會降低氧化膜的孔率。
關于封孔,主要是控制好溫度和時間,避免出現過封孔.如果是常溫封孔,還要調整好鎳/氟含量及其比例,特別是氟離子含量不能太高.如果出現了過封孔,可將鋁件浸入稀硝酸中退除粉霜.封孔后的氧化鋁合金板表面呈鏡面
陽極氧化鋁板氧化膜生成的正常道理。
陽極氧化膜成長的一個先決條件是，電解液對氧化膜應有熔化感化。但這并非說在全部存在熔化感化的電解液中陽極氧化都能生成氧化膜或生成的氧化膜性質雷同。
陽極氧化按電流情勢分為：直流電陽極氧化， 交流電陽極氧化，脈沖電流陽極氧化。按電解液分有：硫酸、草酸、鉻酸、混雜酸跟以磺基有機酸為主溶液的天然著色陽極氧化。按膜層性質分有：正常膜、硬質膜(厚膜)、瓷質膜、光亮修飾層、半導體感化的阻擋層等陽極氧化。鋁及鋁合金常用陽極氧化辦法跟工藝條件見表-5。此中以直流電硫酸陽極氧化法的運用為廣泛。 陽極氧化膜由兩層造成，多孔的厚的外層是在占有介電性質的致密的內層上上成長起來的，后者稱為阻擋層(也稱活性層)。用電子顯微鏡觀察研討，膜層的縱橫面簡直全都出現與金屬名義垂直的管狀孔，它們貫穿膜外層直至氧化膜與金屬界面的阻擋層。以各孔隙為主軸四周是致密的氧化鋁造成一個蜂窩六棱體，稱為晶胞，全部膜層是又無數個如許的晶胞造成。阻擋層是又無水的氧化鋁所造成，薄而致密， 占有高的硬度跟阻擋電流經由過程的感化。阻擋層厚約0.03-0.05μm，為總膜后的0.5%-2.0%。氧化膜多孔的外層重要是又非晶型的氧化鋁及小量的水合氧化鋁所造成，別的還含有電解液的陽離子。當電解液為硫酸時，膜層中硫酸鹽含量在畸形情形下為13%-17%。氧化膜的大部分優良特征都是由多孔外層的厚度及孔隙率所覺決議的，它們都與陽極氧化條件親密相干。
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